对位精度:±5µm
解析度高:2-5µm
曝光定位:4CCD定位
生产效率:5-6S/面
光源能量:≥93%
基板厚度:≤1mm(片料);≤10mm(颗粒)
基板尺寸:≤L132mm*W125mm(片料);20mm*10mm(颗粒);10mm*5mm(颗粒)
适用行业:陶瓷基板曝光
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陶瓷基板曝光机 TC100
详细信息 对位精度:±5µm 解析度高:2-5µm 曝光定位:4CCD定位 生产效率:5-6S/面 光源能量:≥93% 基板厚度:≤1mm(片料);≤10mm(颗粒) 基板尺寸:≤L132mm*W125mm(片料);20mm*10mm(颗粒);10mm*5mm(颗粒) 适用行业:陶瓷基板曝光 |